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一种新型的透明薄膜的研究

         

摘要

应用的需求要求研制具有电磁屏蔽特性的透明薄膜,客观条件的限制使得这种薄膜不仅需要足够的透光性,还要具备相当的屏蔽效能。在比较现有技术的基础上,着重研究了称为“透明金属”的金属-电介质多层结构薄膜,在电磁屏蔽和光学投射两方面进行了分析设计。纳米技术的采用对制备工艺提出了更高的要求,双离子束溅射法具有优良的特性获得广泛采用。文章最后总结了最近取得的研究进展,提出以后的研究方向。

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