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TiN及AlN薄膜的制备和光学性能研究

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摘要

研究了反应溅射法制备AlN、TiN薄膜的工艺过程 ,摸索了用于磁光盘介质层的AlN、TiN薄膜的最佳制备工艺 ,并研究了采用此工艺制备的AlN、TiN薄膜的光学性能。

著录项

来源
《半导体光电》 |2002年第4期|267-270|共4页
作者
王浩敏; 林更琪; 李震; 熊锐; 李佐宜;
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作者单位

武汉华中科技大学电子科学与技术系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TP333.41;
关键词
反应溅射; AlN; TiN; 磁光盘;

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