MC尼龙蒙脱土纳米复合材料的制备与表征

张士华; 陈光; 崔崇

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MC尼龙蒙脱土纳米复合材料的制备与表征

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在超声条件下以KH550硅烷偶联剂插层蒙脱土,采用阴离子聚合反应制备MC尼龙蒙脱土纳米复合材料(MMT/PA),并对改性蒙脱土和纳米复合材料的结构进行表征与性能测试。结果表明,在超声分散条件下KH-550硅烷偶联剂进入蒙脱土的片层间,增大层间距;聚合过程中己内酰胺进入蒙脱土的片层间,实现蒙脱土与己内酰胺的键性结合,并使得最终尼龙分子插层进入蒙脱土的片层间形成纳米复合材料。蒙脱土以部分剥离的多片层聚集体均匀地分散在尼龙基体中,起到增强增韧作用,当蒙脱土含量在3%左右时纳米复合材料的力学性能达到最优。

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来源
《高分子材料科学与工程》 |2010年第7期|114-117|共4页
作者
张士华; 陈光; 崔崇;
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作者单位

南京理工大学材料科学与工程系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类特种结构材料;
关键词
MC尼龙; 蒙脱土; 纳米复合材料; 制备;

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