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王银珍; 周圣明; 徐军;
中国科学院上海光学精密机械研究所;
化学机械抛光技术; 蓝宝石; 衬底; CMP; 抛光方法; 抛光机;
机译:使用化学机械抛光技术研究超薄蓝宝石衬底上GaN外延层中的应力效应
机译:使用原子探针层析成像技术研究蓝宝石衬底上氧化锌纳米壁中镍的分布
机译:接触转移掩膜光刻技术研究蓝宝石衬底上生长的GaN基发光二极管
机译:用电场磨料控制技术研究单晶蓝宝石衬底的高效抛光加工
机译:氮化镓/蓝宝石界面和蓝宝石衬底上缓冲层的TEM表征通过MOCVD。
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:单晶硅和蓝宝石衬底化学机械抛光过程中化学反应层的形成机制
机译:采用CmOs兼容处理技术的蓝宝石衬底上的高电子迁移率晶体管结构
机译:用于生产半导体微电子或光电子部件的蓝宝石衬底的生产包括沿着蓝宝石晶体的晶体学a轴将衬底与蓝宝石晶体分离。
机译:制备涂覆有半导体材料的蓝宝石衬底的方法,通过该方法可获得的涂覆的蓝宝石衬底以及这种衬底在发光二极管中的用途
机译:制造涂覆有半导体材料的蓝宝石衬底的方法,通过该方法可获得的涂覆的蓝宝石衬底以及具有这种衬底的发光二极管
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