管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算

汪爱英; 纪爱玲; 邹友生; 孙超; 黄荣芳; 闻立时

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管道热丝CVD金刚石膜反应器温度场的数值计算

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在热丝化学气相沉积 (HFCVD)金刚石膜的传统管道反应器中 ,对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算。结果表明 ,管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀 ;在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后 ,管道壁温度分布的均匀性大大提高 ;进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度 ,并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布。

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来源
《人工晶体学报》 |2002年第6期|576-582|共7页
作者
汪爱英; 纪爱玲; 邹友生; 孙超; 黄荣芳; 闻立时;
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作者单位

中国科学院金属研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
反应器; 热丝化学气相沉积; 金刚石膜; 管道壁温度场; 模拟计算;

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