大尺寸光通讯磁光薄膜衬底钆镓石榴石(Gd_3Ga_5O_(12))单晶的生长研究

赵广军; 李涛; 徐军

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大尺寸光通讯磁光薄膜衬底钆镓石榴石(Gd_3Ga_5O_(12))单晶的生长研究

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随着光纤通讯产业的迅猛发展 ,市场对 3英寸光通讯磁光薄膜衬底钆镓石榴石 (分子式为Gd3 Ga5O12 ,简称GGG)的需求量急剧增加。本文从磁光薄膜 (YIG以及类YIG)对其外延基底单晶GGG物化性能的要求出发 ,综述了在利用传统的提拉法生长大尺寸、符合磁光薄膜衬底要求的Gd3 Ga5O12 单晶的过程中 ,出现的诸如Ga2 O3 组分挥发 ,界面翻转 ,螺旋生长和晶体的开裂等问题 ,针对各个问题讨论了它们的形成机制并提出了它们的解决方法。最后 ,还根据目前磁光薄膜的发展情况。

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来源
《人工晶体学报》 |2001年第4期|341-347|共7页
作者
赵广军; 李涛; 徐军;
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作者单位

中国科学院上海光学精密机械研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类晶体生长工艺;材料和工作物质;
关键词
YIG; GGG; 螺旋生长; 提拉法; 组分挥发; 单晶生长; 界面翻转; 大尺寸; 光通讯; 磁光薄膜; 钆镓石榴石; 衬底;

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