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唐达培; 高庆;
西南交通大学应用力学与工程系;
金刚石膜; 硅基体; 热残余应力; 有限元方法;
机译:残余应力,基底粗糙度和非均匀应力分布对类金刚石碳膜力学性能影响的有限元分析
机译:当微波等离子体中的金刚石膜沉积时,在具有聚合物前体的硅基衬底上刺激硅基衬底
机译:研究在硅上生长的结构化金刚石膜中的残余应力
机译:硅基衬底上沉积纳米结晶金刚石(NCD)和微晶金刚石(MCD)膜的生长机理和结构表征
机译:激光冲击喷丸引起的残余应力场的有限元分析。
机译:用树脂粘合金刚石锯锯制线速对相变硅晶片中的相变和残余应力的影响
机译:等离子体热表面对Al2024-t351中LSP诱导的残余应力场的影响
机译:几种硅氧烷预聚物材料的硅烷氢,苯和乙烯基含量的有限元分析。
机译:包含硅基金刚石晶格的碳纳米膜形式的包含硅基和涂层的制品,以及制备所述制品的方法
机译:辐射敏感成分,形成硅基涂层膜的方法,硅基涂层膜,装置和具有硅基涂层膜的感光材料以及用于绝缘膜的光敏剂
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