气体流量对TYUT型MPCVD装置沉积大面积金刚石膜的影响

郑可; 钟强; 高洁; 黑鸿君; 申艳艳; 刘小萍; 贺志勇; 于盛旺

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使用自行研制的频率为2.45 GHz的TYUT型MPCVD装置,以H2和CH4为气源,在功率为8 k W、基片温度为1000℃、气体流量为100-800 sccm条件下,进行了直径为65 mm的大面积金刚石膜的沉积实验。使用扫描电镜、X射线衍射仪、数字千分尺和Raman光谱仪等仪器分别对金刚石膜的表面形貌、取向、厚度和品质进行了表征。实验结果表明,气体流量的变化会对金刚石膜的晶粒尺寸,晶体取向,沉积速率,厚度均匀性和品质产生较大的影响。气体流量在300-600 sccm范围内制备的金刚石膜才兼具晶粒尺寸均匀性好、表面缺陷少和品质高的优点。

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来源
《人工晶体学报》 |2016年第10期|2359-2363|共5页
作者
郑可; 钟强; 高洁; 黑鸿君; 申艳艳; 刘小萍; 贺志勇; 于盛旺;
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作者单位

太原理工大学材料科学与工程学院表面工程研究所;

歌尔声学股份有限公司;

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正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
气体流量; MPCVD; 金刚石膜; 均匀性; 晶粒取向; 品质;

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