美国LLNL优化双光子光刻技术用于歡纳增材制造

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美国劳伦斯·利弗莫尔国家实验室（LLNL)的研究人员研发出一种用于优化双光子光刻（TPL)技术性能的新方法，通过“折射率匹配”方法和对材料的优化设计改善了该技术应用于增材制造的效果，最小可制造纳米结构。常规TPL技术采用薄载玻片、透镜及浸镜油辅助激光进行增材制造，使激光聚焦在需固化的位置，可产生具备微小特征的激光点，可实现高加工分辨率。但TPL技术自下而上地构建结构，载玻片和透镜之间的距离通常小于200pm，最终成形结构的最大尺寸受限。研究人员通过改进加工工艺，将光敏材料直接置于透镜上并透过光敏材料使激光聚焦，从而制造出了几毫米高的结构。

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来源
《军民两用技术与产品》 |2018年第5期|39-40|共2页
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正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
增材制造; 光刻技术; 优化设计; 双光子; 美国; 纳米结构; 激光聚焦; 光敏材料;

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