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5月半导体行业要闻

         

摘要

三星与意法半导体联合研发28nm FDSOI工艺意法半导体日前宣布与三星就28纳米FD-SOI工艺(全耗尽型SOI)达成合作,旨在延长28nm工艺生命周期,通过生产低功耗,低成本的处理器满足可穿戴及智能手机市场。根据两家公司的协议,三星将从意法半导体获得28nm FD-SOI技术授权,从而使其可以为其他厂商代工,两家公司的设计流程互相兼容。

著录项

  • 来源
    《今日电子》 |2014年第7期|52|共1页
  • 作者

    蒋欢;

  • 作者单位
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
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