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SADP工艺中一类特殊二维图形的分解处理

         

摘要

自对准双重图型(SADP)技术广泛应用于28 nm以下节点逻辑电路制造工艺和存储器制造工艺.与其他双重图形技术(LELE,LPLE)相比,在处理二维图形分解时,SADP面临更复杂的要求.针对一种简单的二维图形,介绍了3种图形分解方法,可以有效改善线宽和对准工艺窗口.

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