超深亚微米数字集成电路版图验证技术

吕江萍; 陈超; 胡巧云

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超深亚微米数字集成电路版图验证技术

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在超深亚微米工艺中,数字集成电路版图设计由以前简单的物理验证进入到复杂的版图验证阶段.版图验证包含时序验证、形式验证和物理验证.时序验证进行电压降分析和时序分析,确保时序收敛;形式验证进行两个网表的逻辑等效检查;物理验证进行可制造性、可靠性和设计规则检查,确保版图符合可制造性工艺规则和电路规则.三种验证技术共同指导并约束着数字集成电路的物理实现,灵活配置相关版图验证技术可进一步加快版图验证的进度.

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来源
《电子与封装》 |2017年第8期|16-20|共5页
作者
吕江萍; 陈超; 胡巧云;
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作者单位

中国兵器工业第214研究所,江苏苏州215163;

中国兵器工业第214研究所,江苏苏州215163;

中国兵器工业第214研究所,江苏苏州215163;

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正文语种 chi
中图分类设计;
关键词
超深亚微米; 版图验证; 时序验证; 形式验证;

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