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ARC工艺技术研究

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本文介绍了应用于金属互联工艺的ARC(抗反射层或防反射层)技术.通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,深刻地理解ARC技术.最后给出了可以用于0.5μm工艺生产的ARC结构及用于衡量ARC性能的参数.

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来源
《电子与封装》 |2002年第5期|27-31|共5页
作者
温万良; 周林;
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作者单位

无锡微电子科研中心二室,江苏,无锡,214035;

无锡微电子科研中心二室,江苏,无锡,214035;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN405.91;
关键词
ARC; 光刻; 抗反射;

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