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硫酸盐体系三价铬电沉积厚铬工艺研究

         

摘要

以较为环保的硫酸盐体系进行三价铬电镀,研究了甲酸钠、羧酸和硫酸铵质量浓度以及镀液pH、温度、电流密度和电沉积时间对铬镀层厚度和光亮范围的影响,通过扫描电镜和X射线衍射对镀层结构进行了表征.得出了三价铬电沉积厚铬的较佳工艺条件为:硫酸铬90 g/L,甲酸钠30 g/L,羧酸21 g/L,硫酸铵10 g/L,pH 2.0,温度50℃,电流密度20 A/dm2,时间30 ~ 60 min.在以上条件下电沉积铬,镀层厚度可达15.26~22.51 μm,持续电镀能力为53 A·h/L.铬镀层微观形貌为胞状凸起,经过热处理后该胞状凸起消失并出现微裂纹,而且热处理后镀层由非晶态转变为晶态.

著录项

  • 来源
    《电镀与涂饰》 |2013年第11期|13-17|共5页
  • 作者单位

    中航工业沈阳飞机工业(集团)有限公司,辽宁沈阳 110034;

    哈尔滨工业大学(威海)应用化学系,山东威海264209;

    厦门弘信电子科技股份有限公司,福建厦门 361100;

    深圳清华大学研究院,广东深圳518057;

    深圳市工业应用分离技术重点实验室,广东深圳518057;

    哈尔滨工业大学(威海)应用化学系,山东威海264209;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TQ153.11;
  • 关键词

    三价铬电镀; 硫酸盐; 厚度; 微观结构;

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