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化学镀Ni-P工艺在制药设备上的应用

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摘要

在制药设备上使用了化学镀Ni-P工艺.给出了2种工艺流程并确定了镀液配方.研究了温度、前处理对施镀的影响.结果表明,最佳施镀温度为[(85～90)±2] ℃,镀件冲击镀镍及镀液磁化均可取得良好的效果.该方法得到的镀层结构致密、孔隙率低、耐蚀性强、结合力好、硬度高.

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来源
《电镀与涂饰》 |2006年第7期|15-16|共2页
作者
齐晓全;
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作者单位

吉林航空维修有限公司工艺技术研究所,吉林,132102;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类各种金属及合金的腐蚀、防腐与表面处理;电镀工业;
关键词
化学镀Ni-P; 制药设备; 冲击镀镍; 镀液磁化;

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