化学机械抛光中Co/Ti电偶腐蚀与去除速率选择性研究

著录项

• 来源
  《电镀与涂饰》 |2021年第1期|48-53|共6页
• 作者

  周婉睛; 孙鸣; 孟凡浩; 阳小帆; 杨朝霞;

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• 作者单位

  河北工业大学电子信息工程学院 天津 300130;

  天津市电子材料与器件重点实验室 天津 300130;

  河北工业大学电子信息工程学院 天津 300130;

  天津市电子材料与器件重点实验室 天津 300130;

  河北工业大学电子信息工程学院 天津 300130;

  天津市电子材料与器件重点实验室 天津 300130;

  河北工业大学电子信息工程学院 天津 300130;

  天津市电子材料与器件重点实验室 天津 300130;

  河北工业大学电子信息工程学院 天津 300130;

  天津市电子材料与器件重点实验室 天津 300130;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 微电子学、集成电路（IC）;
• 关键词

  钴; 钛; 缓蚀剂; 电偶腐蚀; 化学机械抛光;