首页> 中文期刊> 《电镀与涂饰》 >电压对Zr-4合金Na2SiO3−(NaPO3)6−K2ZrF6体系微弧氧化膜性能的影响

电压对Zr-4合金Na2SiO3−(NaPO3)6−K2ZrF6体系微弧氧化膜性能的影响

         

摘要

在Na2SiO3?(NaPO3)6?K2ZrF6体系中采用微弧氧化法以Zr-4合金为基材制备出陶瓷膜层.利用扫描电镜、粗糙度仪、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪和电化学工作站研究了电压对膜层结构与性能的影响.结果表明,膜层表面呈典型"火山口"形貌,电压升高后膜层粗糙度与致密层厚度增加.膜层主要由单斜氧化锆相(m-ZrO2)和四方氧化锆相(t-ZrO2)组成,Si、P等元素分别以非晶态氧化物的形式存在.经微弧氧化处理后,Zr-4合金的腐蚀电流密度下降,电阻增加,耐蚀性明显提高.480 V下制备的膜层的耐蚀性最优.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号