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蓝宝石化学机械抛光液的研究进展

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简介了蓝宝石化学机械抛光(CMP)的基本原理,从磨料、pH调节剂、表面活性剂、配位剂和其他添加剂方面概述了近年来蓝宝石CMP体系的研究进展,展望了蓝宝石CMP体系未来的研究方向。

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来源
《电镀与涂饰》 |2022年第3期|211-216|共6页
作者
屈明慧; 牛新环; 侯子阳; 张银婵; 朱烨博; 闫晗; 罗付;
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作者单位

河北工业大学电子信息工程学院;

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正文语种 chi
中图分类金属电抛光及化学抛光;
关键词
蓝宝石; 化学机械抛光; 抛光液; 磨料; 添加剂; 综述;

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