磁控溅射制备高熵氧化物薄膜的阻挡扩散性能

秦海宁; 张伟强; 柳泉; 周新雨; 杨尔其

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利用磁控溅射在Ni-8at%W合金基体表面沉积(CoCrNiTa)O_(x)高熵氧化物薄膜,研究了它在1000℃、100 h的真空扩散条件下的高温稳定性及其阻挡Ni-30at%Cr涂层与Ni-8at%W合金基体中元素互扩散的性能,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、能谱仪、纳米压痕仪及划痕仪对薄膜进行研究。结果表明:(CoCrNiTa)O_(x)高熵氧化物薄膜较为致密,为非晶结构。随着溅射时间延长,薄膜纳米硬度上升的趋势很小,但膜基结合力增幅较大。(CoCrNiTa)O_(x)扩散障具有较好的高温稳定性,对Cr元素具有较好的扩散阻挡性能。

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来源
《电镀与涂饰》 |2022年第9期|641-646|共6页
作者
秦海宁; 张伟强; 柳泉; 周新雨; 杨尔其;
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作者单位

沈阳理工大学材料科学与工程学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类金属复层保护;
关键词
磁控溅射; 高熵氧化物; 铬; 扩散障; 膜基结合力;

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