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王飞; 周再发; 李伟华; 黄庆安;
东南大学MEMS教育部重点实验室,南京210096;
光刻; 微电子机械系统; 波导; 光强分布; 光刻胶;
机译:光学光刻中的严格多波曝光模型
机译:光致变色膜在吸收调制光学光刻中性能的综合仿真模型
机译:基于数字微镜器件的光学投影光刻模拟腹膜转移的腹膜仿真构建
机译:严格电磁场模拟对20nM光学光刻技术掩模开发的重要性
机译:投影光刻的综合模型:严格,快速和新颖的处理。
机译:严格的神经网络仿真:在缺乏实验验证数据的情况下提高仿真结果正确性的模型验证方法
机译:基于严格的基于模型的掩模数据准备算法应用于微米秤的图案化的灰度光刻
机译:用于微光刻光学系统的补偿选择和对准的严格方法
机译:具有快速偏置轮廓的基于模型的光刻工艺检查仿真方法
机译:考虑海上作战空间的海军作战评估仿真模型设计系统及基于该模型的海军作战评估仿真模型设计方法
机译:为了补偿中等距离的耀斑和基于光学邻近校正仿真内核的基于快速模型的相图的集成
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