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光学超材料的制备方法与参数提取

         

摘要

在光学超材料研究过程中,其微观结构的控制制备技术至关重要.综述了国内外在光学超材料制备方法方面的大致发展历程.重点介绍了二维光学超材料的制备技术,并分析对比了各种经典制备方法的优缺点.在二维光学超材料制备方法基础上,进一步叙述了三维光学超材料的传统制备和新的研究制备方法.简要介绍了均匀介质光学超材料的介电常数、磁导率、折射率和阻抗等有效电磁参数的提取过程.

著录项

  • 来源
    《强激光与粒子束》 |2015年第10期|163-167|共5页
  • 作者单位

    中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室,太原030006;

    中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室,太原030006;

    山西大学化学化工学院,太原030006;

    中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室,太原030006;

    中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室,太原030006;

    中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室,太原030001;

    中国科学院大学,北京100049;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理光学(波动光学);
  • 关键词

    光学超材料; 实验; 有效参数; 刻蚀; 自组装;

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