基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备

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• 来源
  《强激光与粒子束》 |2011年第2期|407-411|共5页
• 作者

  刘华松; 宋洪君; 王占山; 季一勤; 沈正祥; 马彬; 程鑫彬; 焦宏飞; 陈德应; 刘丹丹;

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• 作者单位

  同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

  哈尔滨工业大学光电子技术研究所,哈尔滨,150001;

  天津津航技术物理研究所,天津市薄膜光学重点实验室,天津,300192;

  同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

  哈尔滨工业大学光电子技术研究所,哈尔滨,150001;

  天津津航技术物理研究所,天津市薄膜光学重点实验室,天津,300192;

  同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

  同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

  哈尔滨工业大学光电子技术研究所,哈尔滨,150001;

  天津津航技术物理研究所,天津市薄膜光学重点实验室,天津,300192;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 激光材料及工作物质;薄膜物理学;
• 关键词

  宽带减反膜; 离子束溅射; 时间-功率控厚; 膜层厚度修正;