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高损伤阈值三倍频分离膜

         

摘要

设计了Nd:YAG激光用三倍频分离膜,膜层材料为SiO2和HfO2.经过优化,膜系在355 nm处的反射率在99%以上,在532 nm和1064 nm处透射率也在99%以上.采用电子束蒸发技术,在熔融石英基底上制备了样品,经测量,制备的分离膜光学性能与设计值接近.分离膜在355 nm激光辐照下的损伤阈值为5.1 J/cm2,并用微分干涉显微镜表征了薄膜损伤形貌.%Using electron beam evaporation, a 355 nm separator was designed by depositiing SiO2 and HfO2 alternatively. The coating has a reflectivity of larger than 99% at 355 nm through optimization and a transmittance larger than 99% at 532 nm and 1 064 nm. It has good electric-field distribution. The spectra of the fabricated coating is close to the designed one. The laser-induced damage threshold of the coating is 5. 1 J/cm2. Morphology of laser-induced damage of the coating was characterized by differential interference contrast microscope.

著录项

  • 来源
    《强激光与粒子束》 |2011年第7期|1882-1884|共3页
  • 作者单位

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海200092;

    上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海200092;

    上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海200092;

    上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092;

    同济大学航空航天与力学学院,上海200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海200092;

    上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092;

    同济大学航空航天与力学学院,上海200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海200092;

    上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海200092;

    上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室,上海200092;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜的性质;
  • 关键词

    三倍频分离膜; 电子束蒸发; 激光损伤阈值; 光学薄膜;

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