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脉冲激光气相沉积法制备的非晶CH薄膜特性分析

         

摘要

采用脉冲激光气相沉积(PLD)法,研究了氢气压强对非晶CH薄膜性能的影响.原子力显微镜图和白光干涉图显示,薄膜表面平整致密,随着氢气压强增大,粗糙度变大.拉曼光谱分析表明,氢气压强增加,G峰和D峰位置都在向高波数方向移动.傅里叶变换红外光谱分析显示,薄膜中存在sp3-CH2和sp2-CH等基团.最后,采用PLD漂浮法在最优参数氢气压强为0.3 Pa下,成功制备了不同厚度(100~300 nm)、满足一定力学强度、无明显宏观缺陷的自支撑CH薄膜.

著录项

  • 来源
    《强激光与粒子束》 |2010年第6期|1291-1295|共5页
  • 作者单位

    西南科技大学,理学院,四川,绵阳,621010;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    西南科技大学,理学院,四川,绵阳,621010;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    西南科技大学,理学院,四川,绵阳,621010;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    西南科技大学,理学院,四川,绵阳,621010;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 O484.41;
  • 关键词

    非晶CH薄膜; 脉冲激光沉积; 自支撑; 光谱分析;

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