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杨炜; 郭隐彪; 许乔; 李亚国;
厦门大学,机电工程系,福建,厦门,361005;
成都精密光学工程研究中心,成都,610041;
超精抛光; 边缘效应; 表面模型; 压强分布; 去除量;
机译:用于高科技零件的超精密抛光技术-消除应力和超精密抛光:带包装/抛光材料的超精密抛光
机译:在超精密抛光中实现纳米级材料去除的方法
机译:高科技零件 - 应力消除和超精密抛光技术:包装/抛光材料的超精密抛光
机译:超精密抛光工艺中基于边缘效应的材料去除率
机译:电镀CBN砂轮和配对抛光的材料去除模型和预期寿命。
机译:工艺参数对微光学模具振动辅助抛光中材料去除的影响
机译:化学机械抛光中抛光垫曲率对材料去除率的影响
机译:影响二氧化硅玻璃抛光材料去除和表面光洁度的因素
机译:超精密磁抛光的超精密磁抛光方法和抛光浆
机译:气体团簇离子束的超精密抛光方法及超精密抛光装置
机译:超精密抛光方法和超精密抛光装置
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