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应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值

         

摘要

利用电子束热蒸发方法在K9玻璃基底上沉积氧化锆薄膜,并对其中一些样品用低能O2+进行了后处理.采用表面热透镜技术测量薄膜样品表面弱吸收,采用显微镜观察样品离子后处理前后的显微缺陷密度.测试结果表明:经离子后处理样品表面的缺陷密度从18.6/mm2降低到6.2/mm2,且其激光损伤阈值从15.9 J/cm2提高到23.1 J/cm2,样品的平均吸收率从处理前的1.147×10-4降低到处理后的9.56×10-5.通过对处理前后样品的表面微缺陷密度、吸收率及损伤形貌等的分析发现:离子后处理可以降低薄膜的显微缺陷和亚显微缺陷,从而降低薄膜的平均吸收率,同时增强了薄膜与基底的结合力,提高了薄膜的激光损伤阈值.

著录项

  • 来源
    《强激光与粒子束》 |2005年第2期|213-216|共4页
  • 作者单位

    中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院,研究生院,北京,100039;

    中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院,研究生院,北京,100039;

    中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院,研究生院,北京,100039;

    中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院,研究生院,北京,100039;

    中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜的性质;
  • 关键词

    激光损伤阈值; 薄膜; 离子后处理; 微缺陷;

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