CH薄膜非平衡辐射烧蚀的特性

著录项

• 来源
  《强激光与粒子束》 |2004年第2期|195-199|共5页
• 作者

  曾先才; 盛家田; 李蒙; 张利发; 高耀明; 李生; 冯庭桂;

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• 作者单位

  北京应用物理与计算数学研究所,北京100088;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 TN246;
• 关键词

  非平衡辐射烧蚀; 特性; 定标律; CH薄膜;