13.9nm软X射线激光用大面积多层膜分束镜研制

王占山; 张众; 王风丽; 吴文娟; 王洪昌; 秦树基; 陈玲燕

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基于分束镜反射率和透射率的乘积为衡量标准的原则,设计了13.9nm软X射线激光干涉测量所需的多层膜分束镜,用磁控溅射法在有效面积达10mm×10mm,厚100nm的氮化硅窗口上镀制Mo/Si多层膜,实现了分束镜制作.用表面轮廓仪实测分束镜面形精度达到nm量级,同步辐射反射率计测试表明,分束镜的反射率和透射率乘积约4%.

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来源
《强激光与粒子束》 |2004年第9期|1089-1091|共3页
作者
王占山; 张众; 王风丽; 吴文娟; 王洪昌; 秦树基; 陈玲燕;
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作者单位

同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

同济大学,精密光学工程技术研究所,上海,200092;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN246;
关键词
软X射线; 分束镜; 多层膜; 等离子体诊断;

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