H2及H+对CxH1-x薄膜表面状态的影响

著录项

• 来源
  《强激光与粒子束》 |2000年第5期|593-596|共4页
• 作者

  吴卫东; 罗江山; 黄勇; 张占文; 许华; 郑永铭; 陆晓明; 唐永建; 赵纯培; 陈红;

  展开▼
• 作者单位

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,919-987信箱,621900;

  四川大学分析测试中心,成都,610064;

  四川大学分析测试中心,成都,610064;

  展开▼
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 TL639.11;
• 关键词

  CxH1-x薄膜; 悬挂键密度; 局域化; ICF靶涂层技术;