工件台振动低敏感光刻系统协同优化方法

盛乃援; 李艳秋; 韦鹏志; 刘丽辉

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工件台振动低敏感光刻系统协同优化方法

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计算光刻是提高光刻成像性能的有效方法。但是,大多数计算光刻技术建立在理想光刻系统下而忽略了系统误差的影响。系统误差中的工件台振动会导致光刻图形误差增大和工艺窗口下降。因此,必须要降低工件台振动对光刻性能的影响。建立了一种对工件台振动低敏感的光刻系统协同优化方法。首先利用Zernike多项式表征光源来降低算法计算量并提高光源优化自由度。然后创建一项涵盖工件台振动影响的综合评价函数。最后采用基于梯度的统计优化算法建立优化流程。14 nm节点一维掩模图形仿真表明极端工件台振动下,该方法的特征尺寸误差降低28.7%,工艺窗口增大67.3%。结果证明该方法可以有效降低工件台振动敏感度并提高光刻工艺稳定性。

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来源
《红外与激光技术》 |2019年第12期|188-194|共7页
作者
盛乃援; 李艳秋; 韦鹏志; 刘丽辉;
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作者单位

北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
深紫外光刻; 分辨率增强技术; 协同优化; 计算光刻;

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