偏视场光学系统中心遮光罩设计

王臣臣; 邹刚毅; 李瑞昌; 樊学武

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偏视场光学系统中心遮光罩设计

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对偏视场光学系统的遮光罩进行优化设计。偏视场在一个方向上非对称,设计主镜内遮光罩需要进行光线追迹,难度大。采用痕迹图方法获得光线在空间的位置坐标,确定系统有效视场大小及挡光部分位置,对内遮光罩的挡光部分进行开口处理,得到一个上短下长的特殊"鸭嘴型"遮光罩,降低设计难度。经过优化分析,最终的主镜内遮光罩沿Z轴方向的尺寸缩减为原来的一半,在Y轴方向上尺寸减小来降低非有效视场的大小。使用TracePro软件对设计好的遮光罩进行建模、仿真,得到PST在离轴角度为30°时达到10-9量级,小于系统的5.59×10-7指标要求。结果表明:使用痕迹图法对偏视场光学系统的主镜内遮光罩进行设计是可行的。

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来源
《红外与激光技术》 |2017年第3期|217-221|共5页
作者
王臣臣; 邹刚毅; 李瑞昌; 樊学武;
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作者单位

1. 中国科学院西安光学精密机械研究所 2. 中国科学院大学;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光学;
关键词
偏视场; 杂散光; 中心遮光罩; PST;

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