离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性

刘华松; 傅翾; 王利栓; 姜玉刚; 冷健; 庄克文; 季一勤

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离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性

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离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数（基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量）之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。

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来源
《红外与激光技术》 |2013年第7期|1770-1775|共6页
作者
刘华松; 傅翾; 王利栓; 姜玉刚; 冷健; 庄克文; 季一勤;
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作者单位

1. 天津市薄膜光学重点实验室天津津航技术物理研究所 2. 二炮驻天津地区军事代表室;

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正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
离子束溅射; Ta2O5薄膜; 正交实验; 光学常数; 沉积速率; 应力;

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