宽带啁啾镜的制备及其损伤特性研究

谢雨江; 张锦龙; 王占山; 刘华松; 焦红飞

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宽带啁啾镜的制备及其损伤特性研究

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基于损伤特性、应力特性较好的电子束蒸发技术,制备了Ta2O5/SiO2和HfO2/SiO2两种带宽不同、电场分布不同的啁啾镜,利用中心波长为1030nm,脉宽为350fs的激光脉冲对两种样品进行了损伤测试。实验结果表明:材料特性及电场分布是影响啁啾镜损伤阈值的主要因素,通过膜系设计降低电场分布可以制备带宽更宽、损伤阈值与HfO2/SiO2啁啾镜相近的Ta2O5/SiO2啁啾镜。利用基于导带电子数密度的理论模型对此现象进行了解释,同时对啁啾镜的损伤形貌进行了观测、分析。

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来源
《红外与激光技术》 |2015年第5期|1544-1548|共5页
作者
谢雨江; 张锦龙; 王占山; 刘华松; 焦红飞;
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作者单位

1. 先进微结构材料教育部重点实验室 2. 同济大学精密光学工程技术研究所 3. 天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室;

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正文语种 chi
中图分类非线性光学（强光与物质的作用）;
关键词
啁啾镜; 激光诱导损伤; 飞秒激光; 离化作用; 电场;

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