凸球面网栅激光直写技术

胡内彬; 白剑; 墨洪磊; 朱蓓蓓; 兰洁; 梁宜勇

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为了满足凹球面光刻所需的曲面网栅掩模的需求,建立了凸球面激光直接写入系统用于制作曲面网栅掩模。该系统目前支持最高±20°的基片倾斜,结合加工时的曝光量修正算法,在口径为50 mm、曲率半径为51.64 mm的凸球面基底上制作了矩形网栅图案,并结合双摆台联动在凸面上制作同心圆环图案。实验结果表明,现有凸球面直写系统初步具备加工凸面网栅掩模的能力,为后续的曲面掩模光刻打下坚实基础。

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来源
《红外与激光技术》 |2016年第1期|196-200|共5页
作者
胡内彬; 白剑; 墨洪磊; 朱蓓蓓; 兰洁; 梁宜勇;
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作者单位

1. 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 2. 上海航天控制技术研究所;

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正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
曲面技术网栅; 电磁屏蔽; 凸曲面光刻; 曲面掩模;

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