光刻用准分子激光器能量稳定性影响因素分析(英文)

石海燕; 赵江山; 宋兴亮; 沙鹏飞; 单耀莹; 王倩; 翟晔; 周翊

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光刻用准分子激光器能量稳定性影响因素分析(英文)

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以Cymer公司为例归纳总结了ArF准分子激光器双腔放大结构及相应的脉冲能量稳定性的发展历程,讨论了双腔能量放大机制对脉冲能量稳定性的影响,重点分析了MOPRA结构较MOPA结构在能量稳定性方面的优缺点。着重阐述了放电腔内工作气体成分、配比、电极间流速对脉冲能量稳定性的影响以及相应的改善措施,并结合影响脉冲能量稳定性的因素简述能量控制系统在稳定脉冲能量上的应用。

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来源
《红外与激光技术》 |2014年第11期|3540-3546|共7页
作者
石海燕; 赵江山; 宋兴亮; 沙鹏飞; 单耀莹; 王倩; 翟晔; 周翊;
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作者单位

1. 中国科学院光电研究院 2. 中国科学院大学;

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正文语种 chi
中图分类激光器;
关键词
放大机制; 准分子激光器; 脉冲能量稳定性; 气体成分;

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