激光在硅基底沉积类金刚石膜的光学应用

程勇; 郭延龙; 王淑云; 米朝伟; 丁方正; 万强

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激光在硅基底沉积类金刚石膜的光学应用

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研究了氧气氛和掺硅对类金刚石（DLC）膜性能的影响机理。采用飞秒激光烧蚀石墨靶材,通过氧气氛、掺硅和离轴平移旋转等技术,在硅基底上镀制出比传统工艺透过率、硬度、附着力和稳定性等性能更优的无氢DLC膜。实验验证了随着氧气氛压强的增大,样片透过率先增大后减小,存在一个最佳气压（2 Pa）。并且掺硅有助于改善DLC膜的性能,掺硅量也存在一个最佳值。在3~5μm波段,正面镀DLC膜、背面镀普通增透膜的硅红外窗口的平均透过率≥91.7%,DLC膜的纳米硬度高达40~50 GPa,且通过军标规定的高温、低温、湿热、盐雾、重摩擦等环境实验,满足光学窗口工程应用的要求。

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来源
《红外与激光技术》 |2010年第5期|875-878|共4页
作者
程勇; 郭延龙; 王淑云; 米朝伟; 丁方正; 万强;
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作者单位

武汉军械士官学校光电技术研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
激光沉积; 类金刚石膜; 硅基底; 光学应用;

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