一种深腔内图形制作的光刻方法

王文婧; 陈璞; 何凯旋; 王鹏

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一种深腔内图形制作的光刻方法

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针对半球陀螺在研制流片时遇到的深腔内光刻难题，在现有条件下开展了深腔内光刻工艺实验。实验中将曝光间隙类比深腔深度，利用现有条件开展一系列实验。最终得出：在400～600μm曝光间隙内，采用现有光刻机进行深腔光刻工艺制作时，掩膜图形转移尺寸与曝光量有关，与曝光间隙没有明显关系。实验得出的工艺参数已经应用到半球陀螺项目的制作。

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来源
《集成电路通讯》 |2014年第4期|P.12-16,26|共6页
作者
王文婧; 陈璞; 何凯旋; 王鹏;
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作者单位

北方通用电子集团有限公司微电子部,蚌埠233042;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类光刻、掩膜;
关键词
深腔光刻; 曝光量; 曝光间隙; 半球陀螺;

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