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光学仪器中杂散光抑制技术的探讨

         

摘要

本文从零件表面性能的改善、加工工艺、仪器的结构设计和光学系统设计几方面对杂散光的抑制技术进行了分析和探讨,得出了一些有益的结论。

著录项

  • 来源
    《应用光学》 |1984年第1期|18-24|共7页
  • 作者

    史云飞;

  • 作者单位

    航空工业部613所;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
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