基于扰动源分类控制的二维陀螺平台过顶稳定方法

著录项

• 来源
  《应用光学》 |2021年第6期|989-996|共8页
• 作者

  王新伟; 王惠林; 韩瑞; 杜言鲁; 巩全成; 任元斌; 李涛;

  展开▼
• 作者单位

  西安应用光学研究所 陕西 西安 710065;

  西安应用光学研究所 陕西 西安 710065;

  西安应用光学研究所 陕西 西安 710065;

  西安应用光学研究所 陕西 西安 710065;

  西安应用光学研究所 陕西 西安 710065;

  西安应用光学研究所 陕西 西安 710065;

  西安应用光学研究所 陕西 西安 710065;

  展开▼
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 测试、调整及其设备;
• 关键词

  二维陀螺平台; 过顶稳定; 稳定精度; 隔离度;