采用优化的腐蚀工艺对TiSi2接触特性的改善

田波; 吴郁; 胡冬青; 亢宝位

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采用优化的腐蚀工艺对TiSi2接触特性的改善

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针对传统TiSi2工艺中RCA1(NH4OH:H2O2:H2O)溶液对于TiN/Ti与TiSi2的选择性不好会造成硅化物的损失、提高接触电阻的问题,提出一种采用2次选择性腐蚀的工艺方法进行改善.通过具体的工艺实验证明,与传统工艺方法相比,该工艺方法可以在保持低漏电流的前提下,有效减少TiSi2的损失,使得方块电阻降低约18%.该工艺方法具有简单易行的特点,适用于大规模工业生产.

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来源
《北京工业大学学报》 |2009年第6期|738-741|共4页
作者
田波; 吴郁; 胡冬青; 亢宝位;
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作者单位

北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京,100124;

北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京,100124;

北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京,100124;

北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京,100124;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类制造工艺;
关键词
TiSi2; 选择性腐蚀; 工艺优化; RCA1溶液;

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