溅射功率对ZrNx薄膜微观结构、表面形貌及浸润性能的影响

安涛; 鞠金宁

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溅射功率对ZrNx薄膜微观结构、表面形貌及浸润性能的影响

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利用射频磁控溅射技术,通过改变溅射功率,得到一系列ZrNx纳米薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及接触角测量仪表征了薄膜的微观结构、表面形貌及润湿性能。结果表明,随着溅射功率的增加,薄膜的结晶性变好,在200W时XRD衍射峰强度最高。溅射功率的增加也使得薄膜表面形貌的颗粒尺寸增加。受原子阴影效应的影响,在溅射功率较低时薄膜表面颗粒独立生长,在溅射功率达到200W时由于溅射到衬底表面的粒子有足够的能量进行迁移,薄膜表面开始形成团簇。

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来源
《长春大学学报》 |2020年第6期|32-36|共5页
作者
安涛; 鞠金宁;
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作者单位

长春大学理学院;

长春130022;

长春大学材料设计与量子模拟吉林省高校重点实验室;

长春130022;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
磁控溅射; ZrNx薄膜; 微观结构; 表面形貌; 润湿性;

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