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照明系统远心度仿真模型建立及分析

         

摘要

远心度是衡量光学投影曝光光刻机照明系统性能的重要参数,依据光的衍射理论构建了远心度相关的光刻机投影物镜成像模型.通过matlab软件模拟分析了193 nm光刻机照明系统远心度对线条偏移量的影响.仿真结果显示:环形照明时照明系统远心度会造成孤立线条和周期线条发生偏移,远心度越大线条偏移量越大;远心度为10 mrad时,硅片面100 nm的离焦量会使孤立线条和周期线条分别偏移1.3 nm和2.61 nm,孤立线条偏移量大于周期线条偏移量.仿真结果验证了光刻物镜成像模型的正确性.

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