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ALD表面包覆超薄TiO2对NiCo2O4超级电容器性能影响的研究

         

摘要

In this paper, nickel cobalt oxide precursors grew on nickel foam substrate by hydrothermal method. Then TiO2 thin film (the thickness is less than 1nm) was deposited on the surface of precursor by atomic layer deposition (ALD). The NiCo2O4/TiO2 nanograss electrode exhibited excellent electrochemical performance with initial morphology and structure. The electrochemical performance of as?prepared electrode materials greatly improved after ALD processing. The area capacitance improved from the pristine 1. 1 F/cm2 to 2. 94 F/cm2 at 2 mA/cm2 . At 10 mA/cm2 current density,the specific capacity of electrode materials remains relatively high, showing good cycling stability after 4000 cycles.%本文通过水热法在泡沫镍基底上生长了镍钴氧化物前驱体,并利用原子层沉积技术(ALD)在前驱体表面沉积一层超薄(<1 nm)TiO2薄膜,通过退火处理制备了纳米NiCo2 O4/TiO2复合电极材料.结果表明,经过原子层沉积处理以后的纳米NiCo2 O4/TiO2电极材料在保持原有的形貌和结构基础上电化学性能大幅提高,电极材料在2 mA/cm2的充放电电流密度下比容量达到了2.94 F/cm2,在10 mA/cm2的电流密度下,经过4000次循环以后比容量依然保持较高水平,显示出了很好的循环稳定性.

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