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基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层的影响

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摘要

应用Ｘ射线衍射分析研究了基片负偏压对ＰＥＭＳＩＰ法ＴｉＮ涂层相组成的影响；结果表明，随着基片负偏压增加，膜层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展，进而影响膜层的硬度。通过微区化学成分分析（ＥＤＳ）研究了膜基界面附近的成分分布。结果表明，界面处有过渡层；偏压愈高，过渡层愈显著。

著录项

来源
《大连理工大学学报》 |1995年第3期|339-343|共5页
作者
王玉魁; 张兴龙;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类喷镀法;
关键词
等离子体; 氮化钛; 磁控溅射; 涂层; 离子镀;

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