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脉冲激光淀积法在Pt/TiO_2/SiO_2/Si(001)衬底上制备Pb(Ta_(0.05)Zr_(0.45)Ti_(0.50))O_3薄膜的铁电性质研究

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用脉冲激光淀积方法在Ｐｔ／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／Ｓｉ（００１）衬底上制备了掺Ｔａ的ＰＺＴ薄膜。此薄膜显示了理想的铁电性。漏电流特性表明这种异质结构中Ｓｃｈｏｔｔｋｙ场发射机制起主要作用。扫描电镜形貌照片表明ＰＺＴ薄膜结晶很好并且异质结构界面无明显扩散。

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来源
《功能材料》 |1999年第6期|639-640|共2页
作者
窦敖川; 朱涛; 刘治国;
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作者单位

镇江师范专科学校物理系;

南京大学固体微结构物理国家重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;铁电及压电器件;
关键词
PTZT; 薄膜; 脉冲激光淀积; 铁电性; 漏电流;

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