氧氩流量比对氧化铋纳米薄膜微结构及光电性能的影响研究

陈真英; 周际越; 邓文; 彭富平

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为了制备出不同光电性能的氧化铋薄膜,并明晰其性能机理,以便后续研究与氧化锌薄膜复合成压敏薄膜。采用磁控溅射法,改变溅射气氛中氧气和氩气的流量比,在玻璃衬底上制备出了三个氧化铋薄膜样品,并对其微观形貌、结构及光电性能进行了测试分析。结果表明:溅射气氛中的氧氩流量比对薄膜微结构及光电性能影响显著;不同氧氩流量比制备的Bi_(2)O_(3)薄膜中均含BiO_(2)和Bi杂相,且随着氧氩流量比由0∶40增大至4∶36,薄膜中Bi含量减少,BiO_(2)增加;薄膜颜色由黑变黄;沉积速率由14 nm/min减少至12 nm/min;晶粒尺寸增大,表面趋向致密均匀,可见光区透过率由0.25%增加到56.73%;禁带宽度由0增加到3.17 eV;载流子浓度、导电性能急剧降低,调节溅射气氛中氧氩流量比可有效控制氧化铋薄膜的禁带宽度,载流子浓度等,从而获得不同光电性能的薄膜样品。

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来源
《广西大学学报：自然科学版》 |2021年第6期|1620-1627|共8页
作者
陈真英; 周际越; 邓文; 彭富平;
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作者单位

北部湾大学理学院;

广西钦州535011;

广西大学物理科学与工程技术学院;

广西南宁530004;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
氧化铋薄膜; 磁控溅射; 氧氩流量比; 微结构; 光电性能;

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