CH4对氧化锌场发射性能的影响

王金婵; 刘博; 宋璐; 张立文

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CH4对氧化锌场发射性能的影响

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CH4是封装的氧化锌场发射器件中一种重要的残余气体成份.为了研究该残余气体成份对器件性能的影响,本文采用加速结果显示的充气试验法,即将CH4通过针阀引入安装在真空系统上的氧化锌场发射器件中.从试验结果得出CH4对氧化锌的场发射电流具有增强作用.由于CH4在ZnO表面吸附后改变了Zn0表面的电荷分布,使更多电子聚集在ZnO的表面,从而使其发射电子的能力在相同外加电场下有所增加.根据所得结果,提出通过改变器件内残余气体的方法改善氧化锌场发射器件的工作性能.即在器件排气过程中引入一定量的CH4气体,结果表明器件的发射性能有一定的改善.

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来源
《河南科技大学学报（自然科学版）》 |2013年第3期|45-48|共4页
作者
王金婵; 刘博; 宋璐; 张立文;
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作者单位

河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳471023;

河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳471023;

河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳471023;

河南科技大学电子信息工程学院,河南洛阳471023;

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正文语种 chi
中图分类气体;
关键词
氧化锌; 场发射; CH4; 稳定性;

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