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氧氩比对ZnO薄膜微观结构及光电特性的影响

         

摘要

采用JGP300型超高真空磁控溅射系统,在蓝宝石(Al2O3)、p-Si和氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上制备了ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)、紫外分光光度计(UV)、原子力显微镜(AFM)分析了氧氩比对ZnO薄膜晶体结构、光学特性和表面形貌的影响.测试结果表明:ZnO薄膜均为单一六方纤锌矿结构,且均表现出c轴择优取向.随着氧氩比的减小,ZnO(002)衍射峰强度增大,衍射峰半高宽(FWHM)减小.氧氩比为1:4条件下制备的ZnO薄膜结晶质量较好.随着氧氩比的增大,ZnO薄膜表面粗糙度先增大后减小.在可见光范围内(波长400~700 nm),氧氩比为3:2条件下制备的ZnO薄膜,平均透过率超过70%.

著录项

  • 来源
    《河南科技大学学报(自然科学版)》 |2019年第6期|80-8388|共5页
  • 作者单位

    河南科技大学物理工程学院;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学物理工程学院;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学物理工程学院;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学物理工程学院;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学物理工程学院;

    河南 洛阳 471023;

    河南科技大学河南省光电储能材料与应用重点实验室;

    河南 洛阳 471023;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜技术;
  • 关键词

    ZnO; 磁控溅射; 氧氩比; 光电学特性; 薄膜结构;

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