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纳米4H-SiC薄膜的光学性质研究

         

摘要

SiC薄膜具有结构不易控制 ,透明性较差的特点 .采用PECVD方法淀积的纳米SiC薄膜经光学透过率测试表明 ,在 6 37nm和 795nm处有高的光透过率 .并且当薄膜的厚度增大时 ,仍然具有高透过率的特性 .这一结果表明 ,PECVD技术具有制备结构均匀、透明的纳米SiC薄膜的优势 .同时 。

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