X光电子能谱分析中光电子峰和俄歇峰的干扰及消除

吴正龙

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X光电子能谱分析中光电子峰和俄歇峰的干扰及消除

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X光电子能谱(XPS)在分析多元素材料时,光电子峰可能受到其它元素俄歇谱的干扰.在AlKα激发CrZnSi合金样品时,光电子峰Cr2p和俄歇峰ZnLMM相互干扰,而换用双阳极中的MgKα源激发,虽可消除此相互干扰,但样品表面的Cls和Nls又会受到ZnLMM干扰.类似地,AlKα激发的GaN样品中Nls受俄歇峰GaLMM的严重干扰,而换用MgKα源激发时,Cls峰又受到的GaLMM的干扰.交替使用Mg/Al双阳极激发源,可改变XPS分析中的俄歇谱及其背景对光电子峰的干扰位置,并用未受干扰的峰互相校正2组谱图能量位置,以对样品谱峰作出正确的分析.

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来源
《分析测试学报》 |2005年第3期|45-47|共3页
作者
吴正龙;
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作者单位

北京师范大学,分析测试中心,北京,100875;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O766.3;
关键词
XPS; 光电子峰; 俄歇电子峰; CrZnSi合金; GaN; 双阳极X射线源;

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